传台积电拒绝三星提出的使用其尖端光刻技术量产Exynos芯片的建议

三星在提高下一代 3nm GAA 工艺良品率方面遇到的麻烦有目共睹，这意味着这家韩国代工厂需要制造业上的帮助。 其第一代和第二代 3 纳米 GAA 技术的最初良率目标是 70%，但根据目前的记录，该公司改进后的迭代仅达到 20% ，而台积电的 2 纳米试生产则达到了令人印象深刻的 60%。 鉴于这间台湾半导体巨头的神奇表现，有消

2025-01-24